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[IR Briefing]조창현 아이에스티이 대표 "반도체 장비 국산화 노력 결실"FOUP 클리너 이어 PECVD 시장 진출, 이달 코스닥 입성

이종현 기자공개 2024-12-05 15:54:02

이 기사는 2024년 12월 05일 15:53 thebell 에 표출된 기사입니다.

반도체 장비 기업 아이에스티이가 최근 증시 악재를 정면돌파하는 강수를 뒀다. 공모가 산정을 위한 기관 수요예측 막바지 단계로 내주 일반청약을 예정대로 진행하기로 했다.

주력 제품인 '풉(Front opening unified pod, 이하 FOUP)' 세정 장비 'FOUP 클리너'를 캐시카우로 삼고 '플라즈마 강화 증착공정(PECVD)'을 미래 성장 동력으로 전략이 투심을 환기시킬지 주목된다.

아이에스티이는 5일 서울 여의도에서 기업공개(IPO) 기자간담회를 개최했다. 조창현 아이에스티이 대표(사진)가 직접 나서 회사 보유 기술과 비전에 대해 소개했다.

◇FOUP 클리너 경쟁력 충분, 글로벌 장비사 추격 자신

조 대표는 "아이에스티이의 FOUP 클리너는 유일하게 FOUP 바디와 커버의 분리 세정·건조를 지원하고 공정 시간을 줄이는 경쟁력을 갖췄다"면서 "대규모 반도체 생산을 위해서는 공간 효율성도 중요한데, 우리 장비는 타사 장비 대비 컴팩트해 같은 공간에 더 많은 장비를 둘 수 있다는 것도 강점"이라고 말했다.


아이에스티이는 지난 2일부터 6일까지 공모가 산정을 위한 기관투자가 대상 수요예측을 진행하고 있다. 1주당 공모희망가액 9700~1만1400원으로 공모희망가 기준 시가총액은 902억~1061억원이다. 공모가 확정 후 오는 10~11일 청약을 진행, 이달 12일 코스닥에 입성할 계획이다.

수요예측이 한창인 시점에 비상계엄령이라는 초유의 사태가 발생하면서 공모 성사에 관심이 쏠리기도 했다.

서강석 아이에스티이 상무는 "갑작스러운 일에 긴장한 것은 사실이다. 다만 예상보다 충격이 덜한 것 같다"면서 "상장 연기 계획은 없고 당초 계획한 대로 진행할 것"이라고 말했다.

FOUP은 반도체 웨이퍼를 보관하거나 이동할 수 있도록 설계된 용기다. 삼성전자나 SK하이닉스와 같은 기업부터 SK실트론 같은 웨이퍼 기업 등 반도체 전 분야에서 활용되고 있다. 미국의 브룩스, 일본 휴글이 전 세계 점유율 88%를 차지하고 있는데, 아이에스티이가 후발주자로 추격하는 중이다.

SK하이닉스라는 우군에 의존하는 것이 아니라 기술을 바탕으로 한 글로벌 사업을 전개 중이라고 강조했다. 최근에는 에이전시를 통한 해외 영업을 이어가면서 수출 확대로 매출 편중을 해소하는 중이다. 올해 3분기 누적 수출액은 51억원으로, 지난해 연간 수출액 44억원을 넘었다.

또 2022년 삼성전자에 제품을 납품, 매출원 다각화를 추진하겠다고도 밝혔다. 조 대표는 "SK하이닉스에는 우리가 독점적으로 제품을 공급하고 있다. 하지만 삼성전자의 경우 글로벌 기업 제품과 국내 기업 제품을 같이 이용하고 있다. 우리가 노리는 것은 글로벌 기업 제품을 대체하는 것"이라며 "통상 하이닉스면 하이닉스, 삼성이면 삼성, 한 기업과만 거래하는 경우가 많지만 기술력으로 이를 극복할 것"이라고 전했다.

◇신성장 동력 SiCN용 PECVD, 퀀텀점프 기대

FOUP 클리너가 캐시카우라면 PECVD는 도약을 위한 신사업이다. 조 대표는 "국산화가 이뤄진 여러 공정용 PECVD와 달리 SiCN용 PECVD는 아직 국산화가 이뤄지지 않고 외국계에 의존하고 있다. 주요 고객인 SK하이닉스에 먼저 국산화 제안을 했고, 3개 업체의 경쟁 끝에 우리가 최초의 SiCN용 PECVD 국산화 공급 기업으로 선정됐다"면서 "고난이도의 SiCN용 PECVD 국산화에 성공한다면 다른 공정으로도 확대할 수 있을 것이라 본다"고 피력했다.

PECVD는 화학반응을 통해 형성한 입자를 웨이퍼 표면에 증착시키는 CVD(Chemical Vapor Deposition)의 방식 중 하나로 플라즈마를 이용한다. SiCN(Silicon Nitride) 박막을 씌우기 위한 전용 PECVD로 아직 국산화가 이뤄지지 않았다. 아이에스티이는 SiCN용 PECVD 국산화를 추진, 2022년 SK하이닉스의 최종 국산화 장비 후보자로 선정됐다. 지난해 말 양산 공급을 위한 퀄 테스트를 마쳤고 양산성 볼륨 평가를 진행 중이다.

5년 출시 예정인 아이에스티이 PECVD 차세대 장비

조 대표는 PECVD 시장의 규모가 FOUP 클리너 대비 수십배에 달한다고 강조했다. FOUP 클리너를 핵심 캐시카우로, PECVD를 통해 도약하겠다는 방침이다. 공모자금 상당수도 PECVD 장비 사업을 위해 투입된다. 공모를 통해 확보하는 자금 151억원 중 50억원은 용인시의 토지 취득을 위해 활용할 예정이다. 10월 기준 연간 1330억원 수준의 생산능력을 2028년까지 3300억원으로 키우겠다는 목표다.

변수는 미국발 대중국 반도체 제재다. 아이에스티이의 FOUP 클리너의 경우 직접적인 제재 대상이 아니다. 다만 중국에 진출한 SK하이닉스, 삼성전자 등의 정책에 변화가 예상됨에 따라 이를 고객으로 두고 있는 아이에스티이도 간접적인 영향을 받을 수 있다.

조 대표는 "FOUP 클리너는 제재 품목에 해당하지 않는다. 또 이미 중국 4개 기업과 거래를 하고 있는 만큼 당장 영향이 있으리라고 생각하지 않는다"고 답했다. 이어 "반도체 장비 국산화를 위한 30년의 노력이 최근 결실을 맺고 있다. 주력 제품인 FOUP 클리너 장비 시장 대비 30배 규모의 PECVD 시장에 진입해 신성장 동력을 확보하겠다"면서 "반도체 고도화에 따른 장비의 기술력도 높아지고 있는 상황에서 독자적인 기술력을 통해 업계를 선도해 나가겠다"고 피력했다.
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