이 기사는 2018년 01월 31일 10시26분 thebell에 표출된 기사입니다

삼성전자가 지난해 이례적으로 급증했던 시설 투자비를 올해 조정할 예정이다.

삼성전자는 예년에 23조~25조 원 규모의 시설 투자를 집행했다. 지난해엔 평택 반도체 공장 투자 등으로 시설 투자가 급증했으나 올해부터 이를 다시 평상 수준으로 조정할 것으로 보인다.

삼성전자는 2017년 집행한 시설투자액이 43조4000억 원을 기록했다고 31일 밝혔다. 전년도 시설투자액 25조5000억 원 대비 70%가량 늘어난 수준이다. 사업별로는 반도체 부문에 투자액이 27조3000억 원, 디스플레이에 13조5000억 원이 각각 사용됐다.

지난해 삼성전자는 반도체 사업과 관련된 대규모 자금을 쏟아부었다. 그 결과 삼성전자의 지난해 시설투자 규모는 전년 투자액에 비해 약 18조 원 가량 크게 증가했다. V낸드 수요가 늘어남에 따라 평택 반도체 라인을 증설했으며 파운드리 10나노 공정 캐파를 늘리는데에도 투자했다. 블렉서블 OLED 패널 고객 수요 또한 증가함에 따라 OLED 캐파를 확대해 대응하기도 했다.

최근 5년간 삼성전자의 연간 최대 시설투자액은 25조5000억 원 수준을 넘지 않았다. 삼성전자는 2013년 23조8000억 원을 시설투자에 사용했으며 2014년에는 그보다 소폭 줄어든 23조4000억 원이 집행됐다. 이후 2015년과 2016년 투자액은 각각 25조5000억 원 수준을 유지해왔다.

반도체 공정이나 디스플레이 공정은 평상시에도 지속적인 유지 보수가 필요하고 미세화 공정이나 캐파 증설 등에 막대한 자금이 투입된다. 지난해엔 평상시 유지보수외에 추가 증설이 확대되면서 시설 투자비가 급증했다.

삼성전자는 올해는 지난해 대비 다소 감소된 규모의 시설투자를 집행할 전망이라고 밝혔다. 삼성전자 관계자는 "지난해를 제외하고는 시설투자액 규모는 25조 원 수준이 최대치였다"면서 "올해 투자 계획이 확정되지 않았지만 지난해 수준(43조원)을 유지하기는 힘들다"고 말했다. 이어 "지난해가 이례적인 투자 규모였던 만큼 올해는 자연스럽게 투자액 감소가 예상된다"고 덧붙였다.