이 기사는 2025년 02월 24일 08시20분 thebell에 표출된 기사입니다

와이씨켐이 유리기판 전용 핵심소재를 전면에 내세웠다. 지난해 양산 테스트에 이어 초도 물량을 공급했던 품목이다. 일찍이 핵심소재 중 하나인 포토레지스트(Photoresist)를 주력 먹거리로 삼아온 만큼 고도화된 기술력을 자랑했다. 유리기판 특수코팅제에서도 성과가 가시화되고 있다.

와이씨켐은 서울 강남구 코엑스에서 열린 반도체 전시회 '세미콘코리아 2025'에서 유리기판 전용 핵심소재들을 참관객들에게 공유했다. 일반적으로 유리기판 전용 핵심소재는 △포토레지스트 △스트리퍼(Stripper) △디벨로퍼(Developer) △특수코팅제 등 네 가지를 의미한다. 이 중 포토레지스트와 스트리퍼, 디벨로퍼가 전면에 배치됐다.

포토레지스트는 와이씨켐이 오랜 기간 주력 먹거리로 삼아온 소재다. '빛(Photo)'에 '저항한다(Resist)'는 이름처럼 반도체 노광 공정에 주로 사용되고 있다. 매출 비중도 상당하다. 와이씨켐은 지난해 3분기 기준 매출액 520억원 가운데 절반이 넘는 276억원을 포토레지스트를 포함한 포토 소재로 올렸다.

이날 공개된 포토레지스트 라인업도 6종에 달했다. 대표적으로는 실리콘관통전극(TSV)을 도포하는데 사용되는 포토레지스트(TSV Thick Photoresist)가 참관객들을 맞이했다. 와이씨켐이 고대역폭메모리(HBM) 시장의 성장세에 발맞춰 국산화에 성공한 제품이다. 주요 고객사인 SK하이닉스향 소재이기도 하다.

'i-Line 포토레지스트'와 'KrF 포토레지스트'도 눈에 띄었다. 두 제품 모두 와이씨켐이 그간 연구개발에 매진해왔다는 점을 방증하기 때문이다. i-Line 포토레지스트와 KrF 포토레지스트는 노광 광원의 파장이 각각 365나노미터(nm), 248nm일 때 사용되는 포토레지스트를 뜻한다.

노광 광원의 파장을 꾸준히 줄이고 있는 전방사업의 기조와 무관하지 않다. 노광 광원의 파장이 짧아질수록 공정 내 패턴의 해상도를 보다 미세화할 수 있다. 와이씨켐이 노광 광원 기술의 발전에 발맞춰 꾸준히 포토레지스트의 투과도와 에칭 저항성, 감도, 해상도를 개선해왔다는 의미다.

와이씨켐 전자재료영업부 관계자는 "회사의 장점은 오랜 업력을 토대로 꾸준히 연구개발에 참여해왔다는 점"이라며 "시행착오를 겪기도 했지만 덕분에 기술력이 담보됐다"고 말했다. 그러면서 "SK하이닉스가 공급사를 대상으로 한 기술력평가에서도 꾸준히 1위 자리를 지키고 있다"고 덧붙였다.
스트리퍼와 디벨로퍼에도 관심이 쏠렸다. 스트리퍼는 반도체 세정 공정에 사용되는 유리기판용 박리액이다. 일반적으로 세정 장비를 낱장으로 처리하는 타입(싱글)과 여러 장의 기판을 함께 정리하는 타입(배치)으로 구분된다. 와이씨켐은 싱글용과 배치용 스트리퍼 제품을 모두 보유하고 있다.

디벨로퍼 역량 역시 공유했다. 디벨로퍼는 흔히 현상액으로 불리는 소재로 용해를 선택적으로 일으켜 패턴 형성에 도움을 주는 소재다. 이번 전시회에는 와이씨켐이 지난해 양산화에 성공한 무기타입포토레지스트(Metal oxide resist·MOD) 전용 디벨로퍼(AYCDN-4107)가 소개돼 관심을 모았다.

와이씨켐 관계자는 "유리기판 전용 핵심소재 4종 가운데 포토레지스트와 스트리퍼, 디벨로퍼는 이미 초도 물량을 공급해 올해부터는 본격적으로 매출에 기여할 전망"이라며 "마지막 핵심소재인 특수코팅제도 기술개발이 완료된 만큼 연내 상용화를 목표로 하고 있다"고 전했다.