영창케미칼, 미세패턴 검사장비 도입 '품질·개발↑' 넥스틴 '이지스' 계약…고객사 스펙 강화, 신제품 출하 임박 배경
조영갑 기자공개 2020-10-19 10:13:38
이 기사는 2020년 10월 15일 07:21 thebell 에 표출된 기사입니다.
반도체 감광액(포토레지스트·PR) 국산화 선도기업 '영창케미칼'이 반도체 웨이퍼 검사장비를 본격 도입했다. 검사 및 개발 능력이 강화되면서 기존 주요 고객사 향 공급망이 확대되는 동시에 기술 고도화를 진행하고 있는 PR, SoC(Spin on Carbon) 등의 개발 프로젝트도 탄력을 받을 전망이다.15일 업계에 따르면 영창케미칼은 넥스틴과 반도체 웨이퍼 검사장비 ‘AEGIS(이지스)’를 도입하는 계약을 체결했다. 납기일은 12월 10일까지다. 계약 규모는 25억 원 수준(1기 도입)으로 크지는 않지만, 2019년 영업이익(50억 원)을 고려하면 이익의 절반을 검사 시스템에 투자하는 셈이다.
업계에선 이른바 '소부장 국산화' 선도기업으로 꼽히는 영창케미칼과 넥스틴의 이번 거래에 대해 고무적인 반응을 보인다. 지난해 말 영창케미칼과 넥스틴은 중소기업벤처부가 선정한 '강소기업 100' 프로젝트 반도체 부문에 나란히 이름을 올렸다.
영창케미칼은 2000년 초반부터 자체 기술을 기반으로 미국, 일본 업체들이 과점한 PR시장에 도전장을 던진 기업이다. 넥스틴 역시 글로벌 기업인 KLA-텐코가 장악한 시장에 자체 개발한 웨이퍼 검사 장비의 점유율을 확대하고 있다.
업계 관계자는 "국산화 선도 기업 사이의 거래이기 때문에 정부에서도 긍정적으로 바라보고 있는 거로 안다"고 전했다.
영창케미칼이 넥스틴의 미세패턴 검사 장비를 도입한 배경은 여러 이유가 영향을 미친 것으로 분석된다. 주요 고객사가 소재 부문 협력사를 대상으로 납품 스펙(specification)에 대한 기준을 강화한 데다 영창케미칼 스스로도 기존 KrF PR에서 ArF(불화아르곤) 이머전용 PR, EUV(극자외선) PR까지 개발을 고도화하는 과정에서 더 미세한 패턴을 검사할 수 있는 시스템이 필요했기 때문이다. KLA-텐코 장비 대비 절반 이하의 가격 역시 장점이다.
업계 다른 관계자는 "최근 해외 소재 업체가 국내 주요 고객사에 납품하는 제품에서 결함(defect)이 잇따라 검출되면서 품질관리 파트에서 이에 대한 심각한 우려를 표했고, 기존에 스펙 검증으로 포함하지 않았던 불화크립톤(KrF) PR, SoC 까지 포함했다"고 말했다.
영창케미칼은 네거티브형 KrF PR을 국내 주요 고객사에 공급하고 있다. 네거티브형 PR은 웨이퍼의 빛(노광)을 받은 부분이 용해되면서 남은 부분이 패턴으로 형성되는 포지티브형과 반대로 노광된 부분이 패턴으로 형성되는 PR이다. 공정 마진 효율이 상대적으로 높은 만큼 난이도 높은 기술이다.
업계에선 국내 주요 고객사가 넥스틴의 이지스 장비를 10기 가까이 도입할 예정이기 때문에 동일 장비를 도입한 영창케미칼 역시 기존 납품 PR의 스펙을 충족하는 동시에 공급량을 안정적으로 유지할 것으로 내다봤다.
SoC 역시 마찬가지다. SoC는 포토리소그래피 과정에서 PR과 피식각층 사이에 사용되는 소재다. 영창케미칼은 반도체 공정의 패턴 미세화 추세에 따라 다양한 스펙의 SoC를 개발, 납품하고 있다. 주요 고객사의 포토 공정용 SoC 부문에서 35% 수준의 점유율을 차지한다. 패턴검사 장비의 도입으로 SoC에 대한 품질을 강화하고, 기존 공급망을 확장할 수 있을 것으로 보인다.
영창케미칼은 검사시스템 확충으로 ArF 이머전(액침)용 PR, EUV 용 PR 등의 신규 포트폴리오의 개발 및 양산 공급에도 속도를 내겠다는 방침이다. 특히 개발을 완료하고 검증 단계에 있는 ArF 이머전용 PR 관련 패턴검사를 강화, 수율을 대폭 끌어올리겠다는 계획이다. 양산 공급이 임박했다고 해석할 수 있는 대목이다.
영창케미칼 관계자는 "검사장비는 기존 공급 제품에 대한 스펙 보강과 더불어 현재 개발하는 PR, SoC에 대한 품질 강화에도 큰 도움이 될 것"이라며 "신규 사업으로 분류되는 CMP 슬러리 제품 관련 검사에도 활용할 것"이라고 밝혔다.
영창케미칼은 현재 성주 4공장을 중심으로 평탄화 공정(CMP)에 사용되는 소재인 슬러리(Slurry)와 웨트(wet)케미칼 등으로 소재의 포트폴리오를 확장하고 있다.
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