이 기사는 2022년 09월 02일 17시35분 thebell에 표출된 기사입니다

원자현미경(AFM) 전문기업 파크시스템스가 국내 반도체 제조사로부터 극자외선(EUV) 공정용 마스크 리페어 장비를 수주했다고 2일 밝혔다.

이번 수주로 납품될 장비는 '파크 NX-마스크'다. EUV 공정 후에 EUV 마스크에 발생한 이물질을 제거해 EUV 마스크를 재사용할 수 있도록 돕는 마스크 리페어 장비다. 이물질을 효과적으로 제거해 공정 내 원가절감 및 수율 향상에 기여할 수 있다.

해당 제품은 올 하반기 공식 출시될 예정이다. 지난해 말 테스트를 마치고 납품됐으며 현재는 국내외 여러 고객사로부터 수주를 받고 있는 상태다. 이에 더해 고객사별 공정에 적합한 솔루션 제공을 위해 지속적인 연구개발이 이뤄지고 있다.

반도체 미세공정 인라인 팹에서 활용될 예정이다. 국내외 반도체사가 EUV 레이어를 확대하고 있는 추세와 맞물려 반도체 제조업체 및 마스크 제조업체로부터 향후 주문이 늘어날 것으로 파크시스템스 측은 예상하고 있다.

파크 NX-마스크는 기존 산업용 장비 대비 단가가 70% 이상 높다. 공급량이 늘어날수록 파크시스템스의 매출액과 영업이익이 개선될 것으로 보인다. 하반기에 매출액 증가 폭이 큰 실적 패턴도 완화될 것으로 회사 측은 기대하고 있다.

파크시스템스 관계자는 "해당 장비는 올 하반기 공식 상용화 예정이나, 이미 다수의 수주가 발생하며 전방산업으로부터 높은 관심을 받고 있다"며 "주요 반도체 제조업체들의 EUV 공정이 활성화되면서 EUV용 마스크 리페어 장비에 대한 수요도 지속적으로 늘어나게 될 것"이라고 말했다.